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哈爾濱工業大學：攻克超黑涂層常溫制備技術瓶頸
哈爾濱工業大學對外發布消息稱，該校化工與化學學院吳曉宏教授團隊在超黑涂層技術領域取得重要突破，攻克了超黑涂層常溫制備技術瓶頸，得到了一種朗伯特性顯著的高穩定超黑涂層。
經第三方權威機構檢測，該涂層寬光譜吸收高達99.8%，光線80°入射時總散射積分低至1.5%，可凝揮發物為0.00%，全面滿足多種基體、復雜形面、超大面積實施工藝和空間極端環境應用需求，性能與技術成熟度均優于國內外現役同類產品。
據介紹，超黑涂層能吸收幾乎所有照射在其上的光，應用領域十分廣泛，絕大多數精密光學儀器，都需要超黑涂層來屏蔽光學干擾，提升信噪比和探測能力。
20多年來，吳曉宏教授團隊針對工況條件“量身定制”出一系列滿足服役環境的超黑涂層，已交付遮光罩、擋光板、光闌筒、定標黑體等產品數千件，有效提升了我國航天器光學載荷的在軌探測能力和定位精度，為保證載荷全壽命周期高性能穩定運行提供了必要條件。
責任編輯：第一時間
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