球狀シリカを基質としてインキポリマーの作製を行う。

の機械的性質が強く、安定性があり、表面はさらに修飾しやすい。

シリカ表面でのインキ高分子の作製は，一方でインキ高分子の機械的強度を増大させることができ，他方ではインキ効果の表面積を極めて露出させ，「埋立」現象を減少させ，吸著速度を速めることができる。

従って，シリコン材料表面におけるインキ高分子の作製と研究は急速に発展している。

球狀シリカを基質としてインキポリマーの作製を行い，シリカ表面修飾種によって基本的に2種類に分けることができる。

クラスは球狀シリカ表面で共有結合したビニル基であり，印痕高分子の重合反応がシリカの表面に選択的に発生するように導くことができる。

エチレン基の機能化したシリコンナノ粒子の表面に，2，4，6‐ニトロベンゼンインキ高分子を作製した。

その結果，シリコン表面改質のビニル基機能モノマーは機能モノマーの末端ビニル基との共重合誘導反応によりシリコン表面に選択的に発生するだけでなく，高分子表面に電荷移動複合體を形成することにより，調製した痕跡高分子が急速な吸著動力學と高い吸著容量を持つようになることを示した。

我々の課題群[33]も，自家製シリカナノ球の表面にビニル基を修飾した後，フェノールインキポリマーの調製を行った。

このプリント高分子はより速い吸著速度を持ち，それをガラス炭素電極表面に修飾し，電気化學的方法を用いて痕跡分子含有量の測定を実現した。

その表面に分子を作った。

高効率液相クロマトグラフィー固定相として利用できる痕跡高分子の機械的性質を増強した。

前者はL?Phie?P?Phe二ペプチド対映寫體の分離を実現し、後者はポリペプチドの識別を実現し、印影の効果は印痕ポリペプチドの初期構造に関係するのではなく、ポリペプチドの溶液中の立體配座に関係することを確認した。

Liなどの[36]シリカミクロスフェア表面ではシクロデキストリンとアクリルアミドを同時に結合し，その後トリプトファンインキ高分子の調製を行い，痕跡を殘す高分子の識別性能に及ぼすシクロデキストリンとアクリルアミドの影響を調べた。

もう一つは，球狀シリカ表面のグラフト上に誘起剤を接続した後，プリント高分子の調製を行うことである。

4,4-アゾ-2(4-シアン基-ペンタキサン酸)は、印刷高分子の調製において一般的に用いられる誘発剤であり、基本材料の表面に修飾し、印痕高分子の調製を行うのが一般的である。

Lorenziなどは、この法律で作製した痕跡ポリマーを毛細管電気クロマトグラフィー固定相として用い、ポリマーの厚さ、溶剤、シリコンコロイドの口徑、架橋剤の濃度及び流動相組成の色譜特性への影響を検討した。

Su等は

スルファミンジメタミン印痕ポリマーを表面に作製し，高効率液相クロマトグラフィー固定相として用い，最適なクロマトグラフィー條件下で，ミルク中のスルホンアミンジメチルミンを測定するために用いられ，線形範囲は0?1?50μg／m，l検出は25 ng／m lに制限された。また，シリカ微小球の細孔における印痕性高分子の作製についても報告され，HFを用いた。

この方法によって、Martine-Estebanなどはリゾール印高分子を調製し、クロマトグラム固定相として使用し、野菜サンプル中のフェニル尿素系除草剤を直接検出し、検出時間が10 min.Yilmazを下回るなどして、イソプロピル（脫甲）アドレナリン分子印跡ポリマーを作製し、色スペクトルで相を固定し、カラム効果を高め、分離時間を短縮しました。